您好!欢迎进入山东原晶电子科技有限公司官网!产品中心|关于我们|联系我们|中文|英文
山东原晶电子科技有限公司
当您当前所在位置:首页 < 新闻资讯
Intel高级院士曝光自家10nm工艺
发布时间:2022-03-29

台积电和三星纷纷量产10nm,而曾经作为半导体工艺技术龙头的Intel却动作迟缓,待在14nm上不肯动弹了,10nm目前看快快也得2018年下半年。

那么,真的是Intel在技术上黔驴技穷了?

显然不是。Intel在新一期的半导体行业权威刊物《IEEE Spectrum》上撰文,畅谈了自己的10nm工艺,尤其是在技术、成本方面的巨大优势。

Intel高级院士Mark Bohr表示,Intel 10nm工艺的晶体管密度不但会超过现在的Intel 14nm,还会优于其他公司的10nm,也就是集成度比他们更高,栅极间距将从14nm工艺的70nm缩小到54nm,逻辑单元则缩小46%,这比以往任何一代工艺进化都更激进。

他说:“本代工艺和相关产品要传达的一个重要信息,就是希望能够打消行业对于摩尔定律将死的忧虑。”

Intel在技术上的实力其实根本不用怀疑,那么是不是成本限制了10nm?Mark Bohr也谈到了这一点,明确表

示Intel 10nm晶圆的整体成本确实会高于14nm,但是平均到每个晶体管上会更低。

和每一代新工艺一样,10nm也能提高晶体管的运行速度,或者降低能耗,但更重要的显然是后者。

Mark Bohr表示:“这些新工艺的首要目标确实是降低能耗,或者说提高能效,只有这样才能在服务器芯片内

加入更多核心,或者在GPU内加入更多执行单元,然后才是降低晶体管成本。”

目前,台积电、GlobalFoundries(AMD)、三星等都在积极筹划7nm,Intel的似乎还很遥远。

Mark Bohr对此表示,如果从10nm过渡到7nm会花更长时间,那么重要的就是想方设法增强已有技术,每

年带来新产品。

这似乎意味着,在未来至少五年左右的时间里,Intel仍会坚持当前的产品研发和发布策略,不会变的太激进。

  • 产品分类
    1. SOI硅片
      蓝宝石衬底
      硅片
      石英片
      产品级半导体硅片
      测试级硅片
      调试用硅片
      半导体硅片
      锗片
      晶圆切割
      砷化镓基片
      硅片切割工艺
      微纳加工
      玻璃晶圆
  • 联系我们
  • 山东原晶电子科技有限公司
    联系人:陈经理
    手机:13066901236
    全国咨询热线:4009607168
    邮箱:yuanjingdzchen@163.com
    网址:www.yuanjingdz.com
    地址:山东省济宁市高新区技术产业园

  • 在线留言
    1. 姓名:
      邮箱:
      电话:
      内容:
      验证码: 看不清?点击更换
    copyright @ 山东原晶电子科技有限公司 www.yuanjingdz.com 版权所有 技术支持: